供应终端氢气净化器

 			<!--  .at_5{FONT-SIZE: 12pt; COLOR: #333333; mso-bidi-font-family: 宋体}  .at_8{FONT-SIZE: 12pt; COLOR: black; FONT-FAMILY: 宋体; mso-ascii-font-family: 'Times New Roman'; mso-hansi-font-family: 'Times New Roman'}  .at_2{FONT-SIZE: 12pt; FONT-FAMILY: 宋体}  .at_3{FONT-SIZE: 12pt}  .at_7{FONT-SIZE: 12pt; COLOR: black; FONT-FAMILY: 黑体}  .at_4{FONT-SIZE: 12pt; COLOR: #333333; FONT-FAMILY: 宋体; mso-ascii-font-family: 'Times New Roman'; mso-hansi-font-family: 'Times New Roman'; mso-bidi-font-family: 宋体}  .at_1{FONT-SIZE: 12pt; FONT-FAMILY: 宋体; mso-ascii-font-family: Arial; mso-hansi-font-family: Arial}  .at_0{MARGIN: 0cm 0cm 0pt; TEXT-INDENT: 19.5pt}  .at_6{MARGIN: 0cm 0cm 0pt; TEXT-INDENT: 21.75pt}  .at_9{FONT-SIZE: 12pt; COLOR: black}  -->以水电解氢为原料气，经催化除氧，冷凝和吸附干燥及过滤除尘获得≥99.9995%高纯氢气。如需要氢气纯度≥99.9999%,则需采用复合型贵金属合金净化材料进一步净化氢气中残余杂质.本装置结构紧凑，体积较小，纯化效果好，能耗低，催化剂可长期使用,*再生处理，吸附剂在装置内再生循环使用。**高纯氢气在电子工业部门,用作氢气还原制取半导体**纯材料锗和硅,及用在半导体器件和集成电路的外延工序中及载气和燃烧用气。
处理气量：0.5-3000m3/h
氮气纯度：99.999-9